產(chǎn)品型號(hào)：STM-3-12

爐膛尺寸：150 x150x150mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：1200℃馬弗爐(箱式電阻爐)應(yīng)用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導(dǎo)體材料等新材料領(lǐng)域的燒結(jié)和高溫?zé)崽幚怼?/p>

產(chǎn)品型號(hào)：STGP-80-12

爐膛尺寸：Φ80x1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：PECVD系統(tǒng)（等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設(shè)備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內(nèi)形成等離子體，利用等離子的強(qiáng)化學(xué)活性，改善反應(yīng)條件，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長(zhǎng)的一種新的制備技術(shù)，得到基片上沉積出所期望的薄膜，適用于1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積。

產(chǎn)品型號(hào)：STG-150-12-2

爐膛尺寸：Φ150×1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：雙溫區(qū)管式爐應(yīng)用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導(dǎo)體材料、粉末冶金等新材料領(lǐng)域的燒結(jié)和高溫?zé)崽幚怼?/p>

產(chǎn)品型號(hào)：STQ-20-17

爐膛尺寸：250*320*250mm

最高溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮?dú)?、氬氣、氧氣等保護(hù)氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)

產(chǎn)品型號(hào)：STG-120-12-3

爐膛尺寸：Φ120×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：三溫區(qū)管式爐應(yīng)用于高等院校、科研院所、工廠企業(yè)、石油化工、航空航天等行業(yè)的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導(dǎo)體材料、粉末冶金等新材料領(lǐng)域的燒結(jié)和高溫?zé)崽幚怼?/p>